半導體商面臨的最大問題往往都是產能，時間對於他們來說就是生命。
一臺可拆卸的刻光機可以解決很多產能問題。
在金錢的刺激下，拜爾斯主動提議道：
“老闆，我們目前要解決的便是訂單問題，有了訂單，生產線才能全力運作起來。
我們可以試著找巨頭IBM聊聊，他們曾公開表示誰第一個生產出更精細的光刻設備就會找誰合作。”
這件事邱明祥也是知道的，解釋道：
“IBM在89年率先宣佈他們成功在8英寸晶圓上製造芯片，工藝製程將精細到365nm，他們的總裁呼籲光刻機廠商研發精度更高的光刻設備。
並且公開保證，誰第一個造出來，IBM將優先購買他們的光刻機！”
王磊眼睛一亮，他正在為光刻機賣給誰，買主不就這麼來了嗎。
“這一次展會，一定要邀請IBM的人來觀摩觀摩，要知道我們的光刻機精度可是提升到了70nm！”
遠遠超過了IBM所要求的365nm。
王磊很期待看到一群老外驚訝錯愕的眼神。
幾人都不由的相識一笑。
“老闆，只要拿下IBM，我們的市場佔有率可以提高到5%！”
見拜爾斯有點飄的樣子，王磊還是忍不住敲打道：
“拜爾斯，雖然我們目前製造出了遠超同行的光刻設備，但遠遠沒有到可以大意的時候，我們要儘早將光源波長提高到157nm！”
光刻機技術的升級，可以簡單的看作光源波長的升級。
通過用更高級的曝光光源，來支撐技術進步到下一代。
為了追求更高的分辨率，光源波長從最初的365nm，到248nm，再到如今pas 5500使用的193nm。
據王磊對光刻機發展進程的瞭解，想要從248nm進化到193nm並不是最難的一步。
用不了幾年，尼康、佳能、以及美麗國的GCA都會相繼走到這一步。
最困難的還是向157nm的技術升級。
所有的大廠商都被卡在這一步上。
誰先邁出這一步，便會奠定一超多強的格局，徹底成為光刻機行業的霸主。
拜爾斯也沒有預料到王磊的野心會如此的大，剛完成了技術升級，又開始琢磨著下一代光刻機。
“你放心，不管研發中遇到多少困難，我都會全力支持你們的研發！”
說這話的時候，王磊卻將思緒飄到了臺積電。
那裡有一位龍裔科學家，堪稱半導體“鬼才”一般的存在。
正是他提出了一種較為大膽的理念——浸沒式！
他創造性的提出用水作為曝光介質，光源波長還是用原來的193nm，但通過水的折射，使進入光阻的波長縮小到134nm。
以前的乾式法中，曝光介質用的是空氣。
它們的區別在於折射率，193 nm光源在空氣中的折射率為1，在水中折射率為1.4。
這也就意味著相同光源條件下，浸沒式光刻機的分辨率可以提高1.4倍。